Взаимодействие плазмы газового разряда с поверхностью полупроводниковой подложки

• Средняя оценка доклада

  2.2

  Материаловедение и нанотехнологии

  Кафедра ФЭ

  ФЭ-1502 Разработка и создание технологий нанесения тонкопленочных покрытий ионно-плазменными методами на поверхность гетероэпитаксиальных структур без образования в них радиационных дефектов

  Взаимодействие плазмы газового разряда с поверхностью полупроводниковой подложки

  Альбеков Александр Игоревич, Молчанов Александр

  При реализации некоторых важных технических процессов в микроэлектронике используется плазма газового разряда (магнетронное распыление, плазменное травление). Однако при соприкосновении поверхности обрабатываемой подложки с плазмой газового разряда происходит передача импульса высокоэнергичным заряженным частицам, за счет чего в поверхностном слое полупроводниковой подложки образуются различного рода дефекты.

  Взаимодействие плазмы газового разряда с поверхностью полупроводниковой подложки